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"而由于美国在50年代就已经拥有了接触式光刻机,相比之下,中国落后了将近20年,同时国外从1978年开始转向分步重复投影光刻,此时中国科学界也认识到,分布投影光刻技术的优越性,但限于国内工业技术差难以实现。在1978年世界上第1台DSW光刻机问世不久,机电部第45所,就开始跟踪研究分步式光刻机,对标美国的4800DSW,1985年研制出了BG-101分部光刻机样机,并通过电子部技术鉴定,认为达到了美国同类产品水平,而当时采用的是436纳米G线光源。这也就意味着1985年的时候,中...